Powstał materiał mocniejszy niż kevlar. Kamizelki kuloodporne będą lepsze
Amerykańscy naukowcy stworzyli materiał wykorzystujący nanowłókna, w przeciwieństwie do kevlaru lepiej znosi uderzenia pocisków o dużej prędkości.
Aktualnie wykorzystywany w kamizelkach kuloodpornych kevlar świetnie chroni przed amunicją pistoletową, której pociski w większości przypadków charakteryzują się dużą masą i niską prędkością. Sytuacja zmienia się w przypadku amunicji karabinowej, gdzie mamy do czynienia z lekkimi pociskami ostrołukowymi poruszającymi się z wyższą prędkością. Wtedy potrzebne są tzw. twarde wkłady wykonane najczęściej z materiału ceramicznego, ale zdarzają się też z polietylenu lub - kiedyś - z tytanu.
Twarde wkłady powodują też sporo problemów, ponieważ nie należą do lekkich, a w przypadku większych rozmiarów mogą utrudniać ruchy noszącemu. Tymczasem jak donosi portal Interestingengineering nowy materiał zaprojektowany przez badaczy z University of Wisconsin-Madison ma charakteryzować się niższą masą oraz większą elastycznością.
Cel osiągnięto poprzez połączenie nanorurek węglowych o grubości zaledwie jednego atomu z nanowłóknami kevlarowymi. Pozyskany materiał zapewnia nawet 100-proc. poprawę pochłaniania energii w przypadku pocisków naddźwiękowych w stosunku do samego kevlaru. Ponadto materiał jest odporny na zarówno wysokie, jak i niskie temperatury, podobnie jak kevlar.
Kluczowym aspektem było wytworzenie wiązań wodorowych między nanorurkami węglowymi a nanowłóknami kevlarowymi. Wedle słów przewodniczącego zespołu Ramathasana Thevamarany: "Wiązanie wodorowe jest wiązaniem dynamicznym, co oznacza, że może stale się łamać i ponownie tworzyć, umożliwiając rozproszenie dużej ilości energii w tym dynamicznym procesie".
Tego typu tzw. maty z nanowłókien mogą z powodzeniem zostać wykorzystane do tworzenia elastycznych osłon balistycznych, które zapewnią komfort użytku i dokładne zakrycie ciała, znane z kamizelek w klasie NIJ IIIA, przy zapewnianiu ochrony aktualnie zarezerwowanych dla niewygodnych w użyciu osłon klasy NIJ III i IV.
